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光刻胶

2025-01-15
1707-68-2
企业标准
药用级

产品详情

光刻胶
精细化工
1707-68-2
企业标准
药用级
光刻胶
北美洲,中/南美洲,西欧,东欧,大洋洲,亚洲,中东,非洲

产品描述

产品名称:光刻胶 药用级

补充信息:
光刻胶(Photoresist)是一种用于半导体制造和微电子工业的光敏材料,分子式因具体成分而异,常见类型包括正性光刻胶和负性光刻胶。CAS号因种类不同而不同,例如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)光刻胶的CAS号为9011-14-7。光刻胶主要用于光刻工艺中,通过曝光和显影形成微细图案,是集成电路、显示屏、MEMS等制造中的关键材料。其性能直接影响器件精度和良率,具有高分辨率、灵敏度和抗蚀性等特点。
徐州博康信息化学品有限公司
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公司简介

徐州博康成立于2010年,生产基地位于江苏邳州,研发中心位于上海松江临港科技园。是一家专注于中高端光刻胶及相关原材料研发制造的国家高新技术企业。依托国家半导体战略新兴产业发展规划,徐州博康积极抢占集成电路光刻材料发展制高点,从原材料向上突破,实现了“单体-树脂、光酸-光刻胶”的全产业链覆盖,在保障国产光刻胶材料产业链安全、自主、可控方面取得实质性突破。 目前,徐州博康已成功开发ArF/KrF单体及光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶系列产品,广泛应用于集成电路、分立器件、先进封装等方面,客户覆盖国内及日、韩等亚太地区主要集成电路领先制造企业。其中ArF-immersion产品已经适用于28-45nm制程。基于完整产业链独特视角及产业化优势,徐州博康可根据客户需求定制研发,亦可围绕客户就近建设配胶中心,保持光刻材料供应的稳定、快速、可靠。
成立日期:
年营业额:
主营产品类别: